超支化缓蚀阻垢剂HBPAE-AMPS的微波合成及其性能研究
- Release time:2024-08-09
- Hits:
-
-
-
Affiliation of Author(s):
化学与化工学院
-
-
Journal:
当代化工
-
-
-
Key Words:
超支化聚合物;微波合成;阻垢缓蚀性;
-
Abstract:
首先以二乙醇胺(DEA)、丁二酸酐(SAA)和丙烯酸为原料制备了单体超支化聚酰胺酯(HBPAE),随后HBPAE与单体2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)在过硫酸铵引发下、采用微波辐射法合成了超支化聚合物HBPAE-AMPS。最佳合成条件为:投料质量比m(HBPAE):m(AMPS)=1:5.5、微波合成温度为70℃、功率为500 W、合成时间为50 min。在此基础上,通过红外光谱(IR)、静态阻垢法和电导法、极化曲线法和电化学阻抗(EIS)对其结构组成、阻垢性能、缓蚀性能进行了测定分析,结果表明HBPAE-AMPS有良好的阻垢缓蚀性,当投入量为50 mg/L时阻垢率达83.6%,缓蚀率达76.9%。
-
-
-
First Author:
dongsheying
-
Indexed by:
Journal paper
-
Correspondence Author:
赵向阳,袁小静,朱敏,张勇
-
-
Discipline:
Engineering
-
-
-
Volume:
2016年12期:2747-2750,4
-
-
-
-
ISSN No.:
1671-0460
-
Translation or Not:
no
-
-
Date of Publication:
2016-12-29
-
-
